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    PI 膜石墨化爐

    發布時間:2020-06-19󰇰瀏覽次數:297
    PI 膜石墨化爐

    PI 膜石墨化爐是我廠工程技術人員消化和吸收國外***的測溫、控溫技術、智能化、新材料技術和爐膛設計技術,推出的一項特別碳素材料行業(工藝允許也可適用于其他行業)的高性能智能化電爐。


    ●用途:    

    應用碳素材料的燒結,PI 膜石墨化,導熱材料石墨化、碳纖維繩的燒結,碳纖維燈絲的燒結石墨化及其它可在碳環境下燒結和熔煉的材料。


    ●特點:
    3000℃以內超高溫爐體,可完全滿足各種材料的燒結和石墨化。
    采用數顯化智能控溫系統,全自動高精度完成測溫控溫過程,系統可按給定升溫曲線升溫,并可貯存二十條共400段不同的工藝加熱曲線。
    采用內循環純水冷卻系統;數字式流量監控系統,爐體轉換采用高性能中頻接觸器;全面的PLC水、電、氣自動控制和保護系統。

    ●主要技術參數:
    **使用溫度:3000℃
    高溫區容積:0.01m3、0.02m3、0.03m3、0.05m3、 0.1m3、 0.15m3、0.2m3 、0.3m3 、0.5m3、0.8m3
    爐內工作氣氛:真空、氫氣、氮氣、惰性氣體等
    溫度均勻度:≤±10℃
    溫度測量:遠紅外線光學測溫
    測溫范圍1000~3000℃或600~3100℃
    測溫精度:0.2~0.75%
    溫度控制:程序控制和手動控制; 控溫精度:±1℃
    極限升溫速度:50℃/分鐘(空爐,視高溫區容積和爐膛結構而定.

     

     

    參數名稱 

    單位

    KGPS -160

    KGPS -200

    KGPS -250

    KGPS -250

    KGPS -250

    坩堝有效容積
      (直徑×高)

    mm

    Φ200×300

    Φ350*600

    Φ400*1000 

    Φ500×1000

    Φ600×1000

    中頻電源功率

    Kw

    160

    200

    250

    250

    250

    中頻電源頻率

    Hz

    4000

    4000

    2500

    2500

    2500

    **工作溫度

    ℃ 

    3000

    3000

    3000

    3000

    3000

    極限真空度

    Pa

    1.2×10-1 

    1.2×10-1 

    1.2×10-1 

    1.2×10-1 

    1.2×10-1 

    壓升率

    Pa/h

    2

    2

    2

    2

    2

    恒溫區溫差

    ℃ 

    ±10

    ±10

    ±10

    ±10

    ±10

     


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